中国攻克半导体材料世界难题!性能跃升40% 1月17日消息,在芯片制造中,不同材料层间的岛状连接结构长期阻碍热量传递,成为器件性能提升的关键瓶颈。近日,西安电子科技大学郝跃院士、张进成教授团队通过创新技术,成功将粗糙的岛状界面转变为原子级平整的薄膜,使芯片散热效率和器件性能获得突破...